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多光子非线性量子干涉首次实现 为新型量子态制备等应用奠定基础******

　　科技日报合肥1月16日电 (记者吴长锋)记者16日从中国科学技术大学获悉，该校郭光灿院士团队任希锋研究组与国外同行合作，基于光量子集成芯片，在国际上首次展示了四光子非线性产生过程的干涉。相关成果日前发表在光学权威学术期刊《光学》上。

　　量子干涉是众多量子应用的基础，特别是近年来基于路径不可区分性产生的非线性干涉过程越来越引起人们的关注。尽管双光子非线性干涉过程已经实现了20多年，并且在许多新兴量子技术中得到应用，直到2017年，人们才在理论上将该现象扩展到多光子过程，但实验上由于需要极高的相位稳定性和路径重合性，一直未获得新进展。光量子集成芯片，以其极高的相位稳定性和可重构性逐渐发展成为展示新型量子应用、开发新型量子器件的理想平台，也为多光子非线性干涉研究提供了实现的可能性。

　　任希锋研究组长期致力于硅基光量子集成芯片开发及相关应用研究并取得系列重要进展。在前工作基础上，研究组通过进一步将多光子量子光源模块、滤波模块和延时模块等结构片上级联，在国际上首次展示了四光子非线性产生过程的相干相长、相消过程，其四光子干涉可见度为0.78。而双光子符合并未观测到随相位的明显变化，这同理论预期一致。整个实验在一个尺寸仅为3.8×0.8平方毫米的硅基集成光子芯片上完成。

　　这一成果成功地将两光子非线性干涉过程扩展到多光子过程，为新型量子态制备、远程量子计量以及新的非局域多光子干涉效应观测等应用奠定了基础。审稿人一致认为这是一个重要的研究工作，并给出了高度评价：该芯片设计精良，包含多种集成光学元件，如纠缠光子源、干涉仪、频率滤波器/组合器；这项工作推动了集成光子量子信息科学与技术研究领域的发展。

工信部：大力培育工业互联网龙头企业和“专精特新”中小企业******

　　中新网1月18日电 国务院新闻办公室18日举行新闻发布会，工业和信息化部新闻发言人、信息通信管理局局长赵志国在会上表示，下一步，我们将重点从三个方面发力，加快工业互联网规模化发展，推动数字经济和实体经济深度融合，不断释放产业升级动力，助力工业经济稳步回升。

　　一是优环境，加强政策引导。会同各部门、各地方扎实推进《工业互联网创新发展三年行动计划(2021-2023年)》，确保各项工作圆满收官，研究制定促进工业互联网规模化发展的政策举措，进一步完善顶层设计，用好用足财税金融相关政策，加强产融合作、产教结合，进一步营造良好的发展环境。

　　二是抓创新，增强发展动能。强化技术创新，深入实施工业互联网创新发展工程，打好技术攻坚战，完善标准体系，破解制约规模化发展的关键短板。深化产业创新，支持电信企业、互联网平台企业、工业企业等各类市场主体发挥各自优势加强联动协同，大力培育工业互联网龙头企业和“专精特新”中小企业，壮大工业互联网产业联盟，打造健康可持续的产业生态。

　　三是强应用，加快推广普及。加快先进工厂培育，推动企业积极利用5G等技术开展工厂数字化改造，促进新技术新场景新模式的广泛应用。加速产业集群升级，开展工业互联网“百城千园行”活动，总结推广成功案例，促进工业园区数字化绿色化发展。深化重点行业拓展，广泛开展供需对接，加强工业互联网在重点产业链普及，以工业互联网的规模化应用促进实体经济高质量发展。(中新财经）

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　　（文图：赵筱尘 巫邓炎）